一種羥基氧化鈷生產(chǎn)方法專利登記公告
專利名稱:一種羥基氧化鈷生產(chǎn)方法
摘要:一種羥基氧化鈷生產(chǎn)方法,首先配制鈷含量為75-85g/l的硫酸鈷溶液;調(diào)整溶液pH值為3.0~4.5,按鈷∶EDTA=100∶1~3的比例加入EDTA,再配制堿液濃度為7~9mol的氫氧化鈉溶液,將兩種溶液同時并流流入反應(yīng)槽中,通入空氣進行合成反應(yīng),控制反應(yīng)溫度為50~70℃,pH值10.0~12.0,反應(yīng)15~25小時后流入陳化槽陳化50~60分鐘,最后經(jīng)過濾、洗滌和漿化,得到羥基氧化鈷固體產(chǎn)品。本發(fā)明生產(chǎn)過程可控,產(chǎn)品顆粒分布均勻,一致性好,形貌為類球形,具有很好的分散性,且生產(chǎn)過程中無氨氮污染,實現(xiàn)
專利類型:發(fā)明專利
專利號:CN201210068153.0
專利申請(專利權(quán))人:湖南紅太陽電源新材料股份有限公司
專利發(fā)明(設(shè)計)人:韋承僚;張曉華;周紅陽
主權(quán)項:一種羥基氧化鈷生產(chǎn)方法,其特征在于生產(chǎn)步驟如下:a、配制硫酸鈷溶液根據(jù)硫酸鈷溶液原料的鈷含量、配制槽額定容積及待配制鈷溶液的鈷含量控制指標75~85g/l,事先計算出硫酸鈷溶液原料的需要加入量,按計算好的加入量將硫酸鈷溶液原料加入配制槽,開啟攪拌葉片,加入純水至配制槽額定容積標高處,攪拌5~10分鐘,使溶液充分混合;加入鹽酸,調(diào)整溶液pH值為3.0~4.5,取樣分析鈷含量,按鈷∶EDTA=100∶1~3的比例加入添加劑EDTA,然后泵入高位鈷液儲槽;b、配制氫氧化鈉溶液根據(jù)氫氧化鈉溶液原料的濃度、配制槽額
專利地區(qū):湖南
關(guān)于上述專利公告申明 : 上述專利公告轉(zhuǎn)載自國家知識產(chǎn)權(quán)局網(wǎng)站專利公告欄目,不代表該專利由我公司代理取得,上述專利權(quán)利屬于專利權(quán)人,未經(jīng)(專利權(quán)人)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如您希望使用該專利,請搜索專利權(quán)人聯(lián)系方式,獲得專利權(quán)人的授權(quán)許可。