熔敷方法以及熔敷裝置專(zhuān)利登記公告

專(zhuān)利名稱(chēng)：熔敷方法以及熔敷裝置

摘要：本發(fā)明涉及熔敷方法以及熔敷裝置。本發(fā)明的熔敷技術(shù)系在第一部件(1)上使得具有光透過(guò)性的第二部件(2)密接，從第二部件(2)側(cè)照射被偏轉(zhuǎn)控制的激光(L)，在熔敷面(R)熔敷兩部件，壓板(14)配設(shè)在第二部件(2)的光照射面?zhèn)?，入射角調(diào)整階梯(141)設(shè)在壓板(14)，構(gòu)成反射率減少手段，通過(guò)該反射率減少手段，減小第一部件(1)和第二部件(2)的在光照射面的光的入射角(θ1，θ2)，減少在光照射面的激光的反射損耗，提高熔敷效率。在通過(guò)照射光進(jìn)行部件熔敷的熔敷技術(shù)中，減少照射光的反射損耗，實(shí)現(xiàn)熔敷效率高的熔敷。

專(zhuān)利類(lèi)型：發(fā)明專(zhuān)利

專(zhuān)利號(hào)：CN201210074242.6

專(zhuān)利申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人：株式會(huì)社小糸制作所

專(zhuān)利發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：提坂裕至;佐藤正和

主權(quán)項(xiàng)：一種熔敷方法，在第一部件上使得具有光透過(guò)性的第二部件密接，從上述第二部件側(cè)照射由光偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)控制的光，在上述密接面熔敷兩部件，其特征在于：通過(guò)配設(shè)在上述第二部件的光照射面?zhèn)鹊姆瓷渎蕼p少手段，減少照射在上述第二部件的光的反射率。

專(zhuān)利地區(qū)：日本