噴液頭及噴液裝置專利登記公告

專利名稱：噴液頭及噴液裝置

摘要：本發(fā)明涉及噴液頭及噴液裝置。提供能夠提高液滴的噴射特性并對成本的上升進行抑制的噴液頭及噴液裝置。具備包括硅而構成的流路形成構件(10、15)、包括硅而構成的噴嘴板(20)、與流路形成構件(10、15)一起劃分出連通于多個壓力產生室的集流腔(100)的集流腔構件(40)和蓋構件(110)，該蓋構件(110)接合于流路形成構件(10、15)的接合有噴嘴板(20)的面及集流腔構件(40)，對集流腔(100)進行密封；以與噴嘴板(20)不同的材料形成蓋構件(110)，并與噴嘴板(20)離開地固定。

專利類型：發(fā)明專利

專利號：CN201210074600.3

專利申請（專利權）人：精工愛普生株式會社

專利發(fā)明（設計）人：赤羽富士男

主權項：一種噴液頭，其特征在于，具備：包括硅而構成的流路形成構件，其具備多個壓力產生室，該多個壓力產生室連通于噴射液體的噴嘴，包括硅而構成的噴嘴板，其接合于前述流路形成構件且形成有前述噴嘴，集流腔構件，其固定于前述流路形成構件的與前述噴嘴板相反側的面，與前述流路形成構件一起劃分出連通于多個前述壓力產生室的集流腔的一部分，和蓋構件，其接合于前述流路形成構件的接合有前述噴嘴板的面及前述集流腔構件，對前述集流腔進行密封；前述蓋構件由與前述噴嘴板不同的材料形成，與前述噴嘴板離開地固定。

專利地區(qū)：日本