一種基于配位作用的聚電解質自組裝復合納濾膜的制備方法專利登記公告
專利名稱：一種基于配位作用的聚電解質自組裝復合納濾膜的制備方法
摘要：本發(fā)明涉及一種基于配位作用的聚電解質自組裝復合納濾膜的制備方法。分別配制含過渡金屬離子的聚陰離子電解質溶液，和易與過渡金屬形成配合物的聚陽離子電解質溶液；在0～0.5MPa壓力下，將聚陰離子或聚陽離子電解質溶液錯流流過基膜表面，在基膜表面自組裝形成聚電解質薄層膜；用水沖洗膜表面的多余聚電解質溶液；將與上一層帶相反電荷的聚離子電解質溶液錯流流過基膜表面，使聚陽離子電解質與聚陰離子電解質通過金屬離子的配位作用在膜表面發(fā)生自組裝反應，形成聚電解質復合膜；用水沖洗膜表面的多余聚電解質溶液；重復操作，使帶相反電荷的
專利類型：發(fā)明專利
專利號：CN201210199733.3
專利申請（專利權）人：中國海洋大學
專利發(fā)明（設計）人：高學理;蘇保衛(wèi);韓姍姍
主權項：一種基于配位作用的聚電解質自組裝復合納濾膜的制備方法，其特征在于按照如下步驟操作：（1）以去離子水配制具有配位功能的非放射性過渡金屬離子的可溶性無機鹽溶液，并用此溶液配制聚陰離子電解質溶液，所配制溶液中聚陰離子電解質的質量分數(shù)為0.1%～2%；（2）以去離子水或有機溶劑配制聚陽離子電解質溶液，所配制溶液中聚陽離子電解質的質量分數(shù)為0.1%～2%，所述的有機溶劑是醇類，胺類等；（3）基膜用去離子水沖洗或浸泡，去除表面的保護液及雜質；（4）在0～0.5MPa壓力條件下，將聚陰離子或聚陽離子電解質溶液錯流流過基
專利地區(qū)：山東
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