對稱雙光束基準光平面發(fā)生器專利登記公告
專利名稱：對稱雙光束基準光平面發(fā)生器
摘要： 一種對稱雙光束基準光平面發(fā)生器，屬于機械幾何量形位誤差測量領(lǐng)域。本實用新型是由四塊光學(xué)元件及相應(yīng)的機械夾持調(diào)節(jié)機械組成。本裝置可產(chǎn)生兩束對稱光束進行水平方向掃描，這兩束光的對稱線構(gòu)成基準光平面，可用于大尺寸高精度平面度測量，特別適合形狀復(fù)雜的大工件平面度測量，測量精度可達０．５×１０-6（Ｌ為測量點到出光點的距離，單位米）。
專利類型：實用新型專利
專利號：CN89200978.0
專利申請（專利權(quán)）人：清華大學(xué)
專利發(fā)明（設(shè)計）人：劉興占; 陳博一; 梁晉文; 花國梁
主權(quán)項： 一種對稱雙光束基準光平面發(fā)生器，由激光光源，平面反射鏡［１］、［２］、五棱鏡［３］、斜棱鏡［４］和直角棱鏡［５］，以及相應(yīng)固定調(diào)這機構(gòu)所組成，其特征在于底座［６］與激光光源固定在同一底板上，底座［６］內(nèi)放置有直角棱鏡［５］，底座側(cè)壁有一通孔可使激光光束水平射入底座，經(jīng)棱角棱鏡垂直向上反射，反射鏡［１］固定在調(diào)節(jié)架［７］上并超過內(nèi)套管［８］與底座固定在一起，五角棱鏡［３］、斜棱鏡［４］，固定在同一支架［９］上，平面反射鏡［２］，固定在支架［１０］上，調(diào)節(jié)機構(gòu)［１２］可對反射鏡［２］進行調(diào)整，支架［９］和支
專利地區(qū)：北京
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