一種光學(xué)干涉測量儀器專利登記公告
專利名稱:一種光學(xué)干涉測量儀器
摘要: 本實用新型屬于一種光學(xué)測量儀器的氣室與氣路系統(tǒng)的改進,主要由光路系統(tǒng),測量氣室,參比氣室,吸附室等組成,兩氣室相通,中間串接一個吸附室,吸附室內(nèi)裝有受測氣體組分的特異吸附劑,本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有不指定背景氣體,測量準(zhǔn)確、測定范圍廣等優(yōu)點,特別適用于麻醉臨床的氣體監(jiān)測使用。
專利類型:實用新型專利
專利號:CN89208152.X
專利申請(專利權(quán))人:山西省腫瘤醫(yī)院
專利發(fā)明(設(shè)計)人:趙加訓(xùn)
主權(quán)項: 一種測量氣體濃度的光學(xué)干涉儀,由光路系統(tǒng)、光源、電路及氣路系統(tǒng)組成,氣室分為參比氣室和測量氣室,其特征是參比氣室(2)與測量氣室(3)相通,兩氣室中間串接一個吸附室(10),吸附室(10)內(nèi)裝有受測氣體組分的特異吸附劑(9)。
專利地區(qū):山西
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